东莞塔夫纳米科技有限公司涂层系统： 新一代大容量电弧涂层设备（PVD）的代表产品。可搭载同炉等离子氮化装置，实现同炉渗氮处理功能。 本涂层系统可在250 °C 至550 °C 的基材温度下，通过辉光放电等离子体（气体蚀刻）、金属等离子溅射轰击（金属蚀刻）以及阴极电弧沉积，用于各种工具，模具及部件上涂层硬质涂层和润滑涂层。